濟寧雙堿法脫硫塔-雙（shuāng）堿法脫硫塔工作原理

雙堿法脫硫工藝是先用鈉堿性吸（xī）收液進行煙（yān）氣脫硫，然後再用（yòng）石灰粉再生脫硫液，由於整個反應過程是液氣相之間進（jìn）行，避免了係統結垢問題，而且脫硫速率高、液氣比（bǐ）小、吸收（shōu）劑利用率高、投資費用省、運行成本低，適用於鍋爐煙氣、焦（jiāo）爐氣、鍋爐生產廢氣等的（de）脫硫。

一、工藝（yì）特點

1、以NaOH(Na2CO3)脫硫（liú），材料普通，資源豐富，投資成本低；脫硫液中主要（yào）為NaOH(Na2CO3)水溶液，在循環過程中緩解水泵、管道、設備腐（fǔ）蝕、衝（chōng）刷及堵塞（sāi），便於設備運行和維護。

2、鈉基吸（xī）收液對SO2反應速度快，故有較小的液氣比，達到較高的脫硫效率，一（yī）般（bān）≥90%。

3、脫硫劑可被循環使用，它的再生及脫硫沉澱均發生於（yú）塔體，避免塔內堵塞和磨損，降低了運（yùn）行成本。

4、以空塔噴淋為脫硫塔結構，運行可靠性（xìng）高（gāo），事故發生率小，塔阻力低，△P≤600Pa。

二、工藝原理

1、工藝（yì）介紹

雙堿法（fǎ）脫硫係統采用鈉基（jī）脫硫劑進行脫硫，將NaOH（燒堿、火堿）和Ca(OH)2（熟石灰、消石灰）攪拌均勻後做（zuò）成（chéng）溶液打入脫硫塔，該堿性溶（róng）液霧化後與含硫（liú）煙氣充分反應，從而脫除煙氣中的SO2。脫（tuō）硫產物經脫硫劑再生池被Ca(OH)2還原成NaOH，可再次循環使用。

2、工藝原理

含硫煙氣經除（chú）塵後，由引風機正（zhèng）壓吹入（rù）噴淋脫硫塔內。在噴淋塔內設置霧化係統，在該區段空間充滿著由（yóu）霧化器噴出的粒徑為100～300μｍ的霧化液滴，煙氣中SO2與（yǔ）吸收堿液再次反（fǎn）應，脫除90%以上的二氧化硫。

脫硫後的液體落入（rù）脫硫塔底部，定時（shí）定期排入脫硫塔後設置的收集係統，適當補充一定量的堿液後，經循環泵再次送入噴霧（wù）和配液係統中被再次利用，脫硫劑一直處於循環狀態。

經多次循環後的脫硫漿液排入後處理係（xì）統。由於設計的特殊性，經脫硫後的煙氣通（tōng）過塔頂除霧器時，將煙（yān）氣中的液滴分（fèn）離出來，達到同時除塵除霧的（de）效果，潔淨煙氣終達標排放。

三、工藝優勢

1、煙氣係統

煙氣經煙道引風機直接進（jìn）入脫硫塔，脫硫塔以空塔噴淋結（jié）構（gòu），設計空速小（4.0m/s），塔壓力降小（≤600Pa）。脫硫集中除塵、脫硫、排煙氣於一體，煙氣升（shēng）至塔頂進入煙囪排入大氣。當脫硫泵出現故障（zhàng）時，脫硫暫停反應，煙氣可通過煙囪排入大氣。

2、脫硫（liú）塔SO2吸收係統

煙氣（qì）進入脫硫塔向上升起，與向下噴淋的脫硫塔以逆流式洗滌，脫硫塔采用（yòng）噴（pēn）嘴式空塔（tǎ）噴（pēn）淋，將溶劑（jì）霧化無數液滴，讓氣液充分接觸吸收SO2。氣液相接觸麵積越大，兩相傳質熱反應，效（xiào）率越高。

脫硫（liú）塔內堿液霧化吸收SO2及粉塵（chén），生成（chéng）Na2SO3，同時消耗了NaOH和Na2SO3。脫硫液（yè）排出（chū）塔外進入再生池與Ca(OH) 2反應，再生出鈉離子（zǐ）並補入Na2SO3（或NaOH），經循環脫硫泵（bèng）打入脫硫（liú）循環吸（xī）收SO2。

脫硫塔頂部（bù）裝有除霧器，經除霧器折流板碰衝作用，煙氣攜帶（dài）的煙塵和其他水滴、固體顆粒被除霧（wù）器捕獲分離。

3、脫硫產物處理（lǐ）

脫硫產物是石膏漿，具體為CaSO3、CaSO4還有部分被氧化的Na2SO4及粉塵（chén）。由潛水泥漿泵從沉澱池排出處理好，經自然蒸發晾幹。由於石膏漿（jiāng）中含有固體雜質，影響石膏的質量，所以（yǐ）一般以拋棄法為（wéi）高。排出沉澱池（chí）漿液可經水力旋流器，稠厚器增（zēng）濃提固後，再排至渣場處理。

4、關於二次汙染的解（jiě）決

雙堿（jiǎn）法是以鈉堿吸收SO2,其產物可再生出鈉堿繼續使用。有少量的Na2SO4不能夠再生被帶入石膏漿液中，經固液分（fèn）離，分離的固體殘（cán）渣進行回收堆（duī）放再做他用。溶液流回再生池繼續使用（yòng），因此（cǐ）不會產生二次汙染。

5、吸收SO2效率及主要影響因素（sù）

PH值：PH值高，SO2吸收速率大（dà），脫硫效率高，同時PH值高，結垢幾率（lǜ）小，避免吸收劑（jì）表麵純化。

溫（wēn）度：溫度低有利於氣液傳質，溶解SO2，但（dàn）溫度低影響反應速度，所以脫（tuō）硫劑的溫度不是一（yī）個獨立的不（bú）變因素，取決於進氣的煙氣溫度。

石灰粒度及純度：要求石灰純度≥95%，粒度控製Pc200~300目（mù）內。

液漿濃度：控製在10~15%。