發布時間:2023-07-17 11:30:37 人氣:13780
雙堿法脫硫(liú)工藝是先用鈉堿性吸收(shōu)液進行煙(yān)氣脫硫,然後再用石(shí)灰粉再生脫硫液,由(yóu)於整個反應過程是液氣(qì)相之間進行,避免了係統(tǒng)結垢(gòu)問題,而且脫硫(liú)速率高、液氣比小、吸收劑利用率高、投資費用省、運行成(chéng)本低,適用於鍋爐煙氣、焦爐氣、鍋爐生產廢氣(qì)等的脫硫。
一、工藝特點
1、以NaOH(Na2CO3)脫硫,材料普通,資源豐富,投資成本低;脫硫液中主要為NaOH(Na2CO3)水溶液(yè),在循(xún)環過程中緩解水泵、管(guǎn)道、設備腐蝕、衝刷及堵塞,便於設備運行(háng)和維護。
2、鈉基吸收液(yè)對SO2反(fǎn)應速度快,故有較小的液氣比,達到較高的(de)脫硫效率,一般(bān)≥90%。
3、脫硫劑可被循環使用,它的再生及脫硫沉澱均(jun1)發生於塔體,避(bì)免塔內堵塞和磨損,降低了運行成本。
4、以空塔噴淋為脫(tuō)硫塔結構,運行可靠(kào)性高,事(shì)故發生率小,塔阻(zǔ)力低,△P≤600Pa。
二、工藝原理
1、工藝介紹
雙堿法脫硫(liú)係統采用鈉基脫硫劑進行脫硫,將NaOH(燒堿(jiǎn)、火堿)和Ca(OH)2(熟石灰、消石灰)攪拌均勻後做成溶液打入脫硫塔,該堿性溶液霧化後與含硫煙氣充分反應,從而脫除(chú)煙氣中的SO2。脫硫產物經脫(tuō)硫劑再生池被Ca(OH)2還原成NaOH,可再次循環使用。
2、工(gōng)藝原理
含硫煙氣經除塵後,由引風機正壓吹入噴淋脫硫塔內。在噴淋塔(tǎ)內設置霧(wù)化係統,在該區段空間充滿著由霧化(huà)器噴出的粒徑為100~300μm的霧化液滴,煙(yān)氣中SO2與吸收堿液再次反(fǎn)應,脫除90%以上的二氧化硫。
脫硫後的液體落入脫硫(liú)塔底部,定時定期排入脫硫塔後(hòu)設置的收集係統,適當補充(chōng)一定量的堿液後,經循環泵再次送入噴霧和配液係統中被(bèi)再次利用,脫硫(liú)劑一直處於循環狀態。
經多次循環後的(de)脫硫漿液排入後處理係統。由於設計的特殊性(xìng),經脫硫後的煙(yān)氣通過塔頂除霧器(qì)時,將(jiāng)煙氣(qì)中的液滴分離出來,達到同時除塵除(chú)霧的效果,潔淨(jìng)煙(yān)氣終達標排(pái)放。
三、工藝(yì)優勢
1、煙氣係統
煙氣經煙(yān)道引風機直接進入脫硫塔,脫硫塔以空(kōng)塔噴淋結構,設計空速小(4.0m/s),塔壓力降小(≤600Pa)。脫硫集中除塵(chén)、脫硫、排煙氣於一體,煙氣升至塔頂(dǐng)進入煙囪排入大氣。當脫硫泵出現(xiàn)故障時,脫硫暫停反應,煙氣可通過煙囪排入大氣(qì)。
2、脫硫塔SO2吸收係統(tǒng)
煙氣進入脫硫塔向上升起,與向下噴淋的脫硫塔以逆流式洗滌,脫硫塔采用噴嘴式空塔噴淋,將溶劑霧化無數液滴,讓氣液充(chōng)分接觸吸收SO2。氣液相接觸麵(miàn)積越大,兩相傳質熱反應,效率越高。
脫硫塔內堿液霧化吸收SO2及(jí)粉塵,生成Na2SO3,同時消耗了NaOH和Na2SO3。脫硫液排出塔外進入(rù)再(zài)生池與Ca(OH) 2反應,再生出鈉離子並補入Na2SO3(或NaOH),經循環脫硫泵打入脫(tuō)硫循環吸收SO2。
脫硫(liú)塔頂部裝有除(chú)霧器,經(jīng)除霧器折流板碰(pèng)衝作用,煙氣攜帶(dài)的煙塵和其他水滴、固體顆粒被除霧器捕獲分離(lí)。
3、脫硫產物處理
脫硫產物(wù)是石(shí)膏漿,具體為CaSO3、CaSO4還有部分被氧化的Na2SO4及粉塵。由(yóu)潛水泥漿(jiāng)泵從沉澱池排出處理好,經(jīng)自然蒸發晾幹。由於石膏漿中含有固體(tǐ)雜質,影響石膏的質量,所以一般以拋棄法為高。排出沉澱池漿液可經水力旋流器(qì),稠厚器增濃提固後,再排至渣場處理。
4、關於(yú)二次(cì)汙染的解決(jué)
雙堿法是以鈉堿吸收SO2,其產物可再生出鈉堿繼續使用(yòng)。有少量的(de)Na2SO4不能夠再生被帶入石膏漿液中,經固液分離(lí),分離的固(gù)體殘渣進行回收堆放再做他(tā)用。溶液流回再生池繼續使用,因此(cǐ)不(bú)會產生二次汙染。
5、吸收SO2效(xiào)率及主要影響(xiǎng)因素
PH值:PH值高,SO2吸收速率大,脫硫效(xiào)率高,同(tóng)時(shí)PH值高,結垢幾率小,避免吸(xī)收劑表麵純化。
溫度(dù):溫度低有利於氣液傳質,溶解SO2,但溫度低影響反應速度,所以脫硫劑的溫度不是一個獨立的不變因素,取決於(yú)進氣的(de)煙氣溫度(dù)。
石灰粒度及純度(dù):要求石灰純度≥95%,粒度控製Pc200~300目內。
液漿濃度:控製在10~15%。