發布時間(jiān):2023-07-17 11:30:37 人氣:13780
雙堿法脫硫工藝是先用鈉堿性吸收(shōu)液進行煙氣脫硫,然後再用石灰粉再生脫硫液,由於整個反應過程是液(yè)氣相之間進行(háng),避免了係統結垢問(wèn)題,而且脫硫(liú)速率高、液氣比小(xiǎo)、吸收劑利用率高、投資費用省、運行成本低,適用(yòng)於鍋爐煙氣、焦爐氣、鍋爐生產廢氣等的脫硫。
一、工藝特點
1、以NaOH(Na2CO3)脫硫,材料普通,資源豐富,投資成本低;脫硫液中主要(yào)為NaOH(Na2CO3)水(shuǐ)溶液,在循環(huán)過程中緩解水泵、管道、設備(bèi)腐蝕(shí)、衝刷及堵塞,便於設備運行和維護。
2、鈉基吸收液對SO2反應速度快(kuài),故有較小(xiǎo)的液氣比,達到較高的脫硫效率,一般≥90%。
3、脫硫劑可被循環使用,它的再生及脫(tuō)硫沉澱均發生於塔體,避免塔內堵塞和磨損,降低了運行成本。
4、以空塔噴淋為脫硫塔結構,運行可靠性高,事故發生(shēng)率小,塔阻力低(dī),△P≤600Pa。
二、工藝原理
1、工藝(yì)介紹
雙堿法脫硫係統采用鈉基脫硫劑進行脫硫,將NaOH(燒堿、火堿)和Ca(OH)2(熟石灰、消石灰)攪拌均勻後做成溶液打入脫硫塔,該堿性溶液霧化後與含硫煙氣充分反應,從(cóng)而脫(tuō)除煙氣中的SO2。脫硫產物經脫硫劑再(zài)生池被Ca(OH)2還原(yuán)成NaOH,可再次循環(huán)使(shǐ)用。
2、工藝原理
含(hán)硫煙氣經除塵(chén)後,由引風機正壓(yā)吹入噴淋脫硫塔內。在(zài)噴淋塔內(nèi)設置霧化(huà)係統,在該區段空(kōng)間充滿著由霧化器噴出的粒徑為100~300μm的霧化液滴,煙氣中SO2與(yǔ)吸收堿液再次反應,脫除90%以上的二氧化硫。
脫(tuō)硫後(hòu)的液體落入脫硫塔(tǎ)底部,定時定期(qī)排入脫硫塔後設(shè)置的收(shōu)集係統,適當補充(chōng)一定量的堿液後,經循環泵再(zài)次送入噴霧和(hé)配液係統中被再次利用,脫硫(liú)劑一直(zhí)處於循環狀態。
經多次循環後的脫硫漿(jiāng)液排入後處理係(xì)統。由於設計的特殊性,經(jīng)脫硫(liú)後的煙氣(qì)通過塔頂除霧器時,將煙氣中的液滴分離出來(lái),達到(dào)同時除塵除霧的效果,潔(jié)淨煙氣終達標排(pái)放。
三、工藝優勢
1、煙氣(qì)係統
煙氣經煙道引(yǐn)風機直接進(jìn)入脫硫塔,脫硫(liú)塔(tǎ)以空塔噴淋結構,設計空速小(4.0m/s),塔壓力降小(≤600Pa)。脫(tuō)硫集中除塵、脫硫、排煙氣於一體,煙氣升至(zhì)塔頂進入煙囪排入大(dà)氣。當脫硫泵出現故(gù)障時,脫硫暫停反應,煙氣可通過煙囪排入大氣。
2、脫硫塔SO2吸收係統
煙氣進入脫硫塔向上升起,與向下噴淋的脫硫塔以逆流式洗滌,脫硫塔采用噴嘴式空塔噴淋,將溶劑霧化無數液滴(dī),讓氣液充分接觸吸收SO2。氣(qì)液相接觸麵積越大(dà),兩相傳質熱(rè)反應,效率越高。
脫硫塔內堿液霧化吸收SO2及粉塵,生成Na2SO3,同時消耗了NaOH和Na2SO3。脫硫液排出塔(tǎ)外進(jìn)入再生池(chí)與(yǔ)Ca(OH) 2反應,再生出鈉(nà)離子並補入(rù)Na2SO3(或NaOH),經循環脫硫泵打入脫硫循環吸收SO2。
脫硫塔頂部裝有除(chú)霧器,經除霧器折流板碰衝作用,煙氣攜帶的(de)煙塵和其他水滴、固(gù)體顆粒(lì)被除霧器捕獲分離。
3、脫硫產物處理
脫硫產物是石膏漿,具體為CaSO3、CaSO4還有部分被氧化的Na2SO4及粉塵。由潛水泥漿泵從沉澱池(chí)排出處理好,經自然蒸發晾(liàng)幹(gàn)。由(yóu)於(yú)石膏漿中含有固體(tǐ)雜質,影響石膏的質量,所以一般以拋棄法為高。排出沉澱池漿液可經水力旋流器,稠厚器(qì)增濃提固後,再排至渣場處理。
4、關於二次汙染的解決
雙堿法是以鈉堿吸收SO2,其(qí)產物可再生出鈉(nà)堿(jiǎn)繼續使用。有少量的Na2SO4不能夠再生被帶入石膏漿液中,經固液分離,分離的(de)固體殘渣進行回收堆放再做他用(yòng)。溶液流回再生池繼續使用,因(yīn)此不會產生(shēng)二次汙染。
5、吸收SO2效率及主要影響因素
PH值:PH值高,SO2吸收速率大,脫硫效率高,同時PH值高,結垢幾率小,避免吸收劑表麵純化。
溫度:溫(wēn)度低有利於氣液傳質(zhì),溶解SO2,但溫度低影響反應速度,所以脫硫劑的溫度不是一個獨立的不變因素(sù),取決於進氣的煙氣溫度。
石灰粒(lì)度及純度:要(yào)求石灰純度≥95%,粒度控製Pc200~300目內。
液漿濃度:控製在10~15%。