發布時間:2023-07-17 11:30:37 人氣:13780
雙堿法脫(tuō)硫工藝是先用鈉堿性吸(xī)收液進行煙氣(qì)脫硫,然後再用石灰粉再生脫硫液,由於整個反應過程是液氣相之間進行,避免了係統結垢問題,而(ér)且脫硫速率高、液氣比小、吸收劑利用率高、投資費用省、運行成本低,適用於鍋爐煙氣、焦爐氣、鍋爐生產廢氣等的脫硫(liú)。
一、工藝特點(diǎn)
1、以NaOH(Na2CO3)脫硫,材料普通,資源豐富,投資成本低;脫硫液中主要為NaOH(Na2CO3)水溶液,在循環過程中緩(huǎn)解水(shuǐ)泵、管道、設備腐(fǔ)蝕、衝刷及堵塞,便於設備運行和(hé)維護。
2、鈉基吸收液對SO2反應速(sù)度(dù)快,故(gù)有較小的液氣(qì)比,達到較高的脫硫效率,一(yī)般≥90%。
3、脫硫劑可被循環使用,它的再生及(jí)脫硫沉澱均(jun1)發(fā)生於塔體,避免塔內堵塞和磨損,降低了運(yùn)行成本。
4、以空塔噴淋為脫硫(liú)塔結構,運行可靠性高,事故發生率小(xiǎo),塔阻力低(dī),△P≤600Pa。
二、工藝原理
1、工藝介紹
雙堿法脫硫係(xì)統采用鈉基脫硫劑進(jìn)行(háng)脫硫,將NaOH(燒堿、火堿)和Ca(OH)2(熟石灰、消石灰(huī))攪(jiǎo)拌均勻後做成溶液打入脫硫塔,該堿性溶液(yè)霧化後與含硫(liú)煙氣充分反應,從而脫除煙氣中的SO2。脫硫產物經脫(tuō)硫劑再生池被Ca(OH)2還原成NaOH,可再次循環使用。
2、工藝原理
含硫煙(yān)氣經除塵後,由引風機(jī)正壓吹入噴淋脫硫塔內。在噴淋塔內設置霧化係統(tǒng),在該區段空間充滿著由霧化器噴出的粒徑為100~300μm的霧化(huà)液滴,煙氣中SO2與吸收堿液再次反應,脫除90%以上的二氧化硫。
脫硫後的液體落入脫硫塔底部(bù),定時定期排入脫硫塔後設置的收集係(xì)統,適當補充一定(dìng)量的堿液後,經循環泵再次送入噴霧和配(pèi)液係統(tǒng)中被再次利用,脫硫劑一直處於循環狀態。
經多(duō)次循環後的脫硫漿液(yè)排入後處理係統。由於設計的特殊性,經脫硫後的煙氣通過塔頂除霧器(qì)時,將煙氣中的液滴分離出來,達到同時除塵(chén)除霧的效果,潔淨(jìng)煙氣終達標排放。
三、工藝優勢
1、煙氣係統
煙氣經煙道引風機直接進入脫硫塔,脫硫塔以(yǐ)空塔(tǎ)噴淋結構,設計空速小(4.0m/s),塔壓力降(jiàng)小(xiǎo)(≤600Pa)。脫硫集中除塵、脫硫、排煙氣(qì)於一體,煙氣升至塔頂進入煙囪排入大氣(qì)。當脫硫泵出現故障時,脫硫暫(zàn)停反應,煙氣(qì)可通過煙囪排入大氣。
2、脫硫塔SO2吸收係(xì)統
煙氣(qì)進入脫硫(liú)塔向上升起(qǐ),與向下噴淋的脫硫塔以逆流式洗滌,脫硫塔(tǎ)采用(yòng)噴嘴式空塔噴淋,將溶劑霧化無數液滴,讓氣液充分接觸吸收(shōu)SO2。氣液相接觸麵積越大(dà),兩相傳質熱反(fǎn)應,效(xiào)率越高。
脫硫塔內堿液霧化吸收SO2及粉塵,生成(chéng)Na2SO3,同時消耗了NaOH和Na2SO3。脫硫液排出塔外進(jìn)入(rù)再生池與Ca(OH) 2反應(yīng),再生出鈉離子並補入Na2SO3(或(huò)NaOH),經循環脫硫泵打入脫硫循環吸收SO2。
脫硫塔(tǎ)頂部裝有除霧器,經除霧器折流板碰衝作用,煙氣攜帶的煙塵和其他水滴、固體顆粒被除霧器捕獲分離。
3、脫硫產物處理(lǐ)
脫硫產物是石膏(gāo)漿,具體為CaSO3、CaSO4還有部分被氧化的Na2SO4及(jí)粉塵。由潛水泥漿泵從沉澱池排出處理(lǐ)好,經自然蒸發晾幹。由於石膏漿(jiāng)中含有固體雜質,影響石膏的質量,所(suǒ)以一般以拋棄法為高。排出(chū)沉澱池漿液可經水力旋(xuán)流(liú)器,稠厚器增濃提固後,再排至渣場處理。
4、關於二次汙染的解決
雙堿法是以鈉堿吸收SO2,其產物可再生出鈉堿繼續(xù)使用。有少量的Na2SO4不能夠再生被帶入石膏漿液中,經固(gù)液分離,分離的固體殘渣進(jìn)行回收堆放(fàng)再(zài)做他用。溶液流(liú)回再生池繼續使用,因此不會產生二次汙染。
5、吸收SO2效率及主要影響因素
PH值(zhí):PH值(zhí)高,SO2吸收速率(lǜ)大,脫硫效率高,同時PH值高(gāo),結垢幾(jǐ)率(lǜ)小,避免吸收(shōu)劑表麵純化。
溫度(dù):溫度低有(yǒu)利於氣液傳質(zhì),溶解SO2,但(dàn)溫度低影響反應速度,所以脫硫劑(jì)的(de)溫度不(bú)是一個獨立的不變因素,取決於進氣的煙氣溫度。
石灰粒度及純度:要求石灰純度≥95%,粒(lì)度控製Pc200~300目內。
液漿濃度:控製在10~15%。