發布(bù)時間:2023-07-17 11:30:37 人氣:13780
雙堿法脫硫工藝是先(xiān)用鈉堿性吸收液進行煙氣脫硫,然後再用石(shí)灰粉(fěn)再生脫(tuō)硫液(yè),由於整個(gè)反應過程是液(yè)氣相之間進行,避免了係統結垢問題,而(ér)且脫硫速率高、液氣比小、吸收劑利用率(lǜ)高、投資費用省、運行成本低(dī),適用於鍋爐煙氣、焦爐氣、鍋爐(lú)生產廢氣(qì)等的脫硫。
一、工藝特(tè)點
1、以NaOH(Na2CO3)脫硫,材料普通,資源豐富,投資成本低;脫硫液中主要為NaOH(Na2CO3)水溶液,在循環過(guò)程中緩解水泵、管道(dào)、設備(bèi)腐(fǔ)蝕、衝刷(shuā)及堵塞,便於設備運行和維護。
2、鈉基吸收液對SO2反應速度快,故有較(jiào)小的液氣(qì)比,達到較高的(de)脫硫效率,一般≥90%。
3、脫硫劑可被循環使用,它的(de)再(zài)生及脫硫沉澱均發生(shēng)於塔體,避(bì)免(miǎn)塔內堵塞和磨損,降低(dī)了運行成本。
4、以空塔噴淋為脫硫塔結構,運行可(kě)靠性高,事故發生率(lǜ)小,塔(tǎ)阻力低,△P≤600Pa。
二、工藝原理
1、工藝介紹
雙堿法脫硫係統采用鈉(nà)基脫硫劑進行脫(tuō)硫,將NaOH(燒堿、火堿)和Ca(OH)2(熟石灰、消石灰)攪拌均勻後(hòu)做成溶液打(dǎ)入脫硫塔,該堿性(xìng)溶液霧化後(hòu)與(yǔ)含硫煙氣充分反應,從(cóng)而脫(tuō)除煙氣中的SO2。脫硫產物經脫硫劑再生池被Ca(OH)2還原成NaOH,可再次循環使用。
2、工藝原(yuán)理
含硫煙氣經除塵後,由引風機正壓吹入(rù)噴淋脫硫塔(tǎ)內。在噴淋塔內設置霧化係統(tǒng),在該區段空間充滿著由(yóu)霧化器噴出的粒徑為100~300μm的霧化液(yè)滴,煙氣中SO2與吸收堿液再次反應,脫除90%以上的二氧化硫。
脫硫後的液體落入脫硫塔底部,定時定期排入脫硫塔後(hòu)設置的(de)收集係統,適當補充一定量的堿液後,經循環泵再次(cì)送入噴霧和配液係統中被再次利用,脫硫劑一直處於(yú)循環狀態。
經多次循環後的脫硫漿液排入後處理係統。由於設計的特殊性,經脫硫後的煙氣通過塔頂除霧器時(shí),將煙(yān)氣中的液滴分離出來,達到同時除塵除(chú)霧的效果,潔淨煙氣終達標排放。
三、工藝(yì)優勢
1、煙氣係統
煙氣經煙(yān)道引風機直接進入脫硫(liú)塔,脫硫塔以空(kōng)塔噴淋結構(gòu),設(shè)計空速小(4.0m/s),塔壓力降小(≤600Pa)。脫硫集中除塵、脫硫、排煙氣於一體,煙氣升至塔頂進(jìn)入煙囪排入大氣。當脫硫泵出現(xiàn)故障時,脫硫暫停反應,煙氣可通過煙囪排入大氣。
2、脫硫塔(tǎ)SO2吸(xī)收(shōu)係統(tǒng)
煙氣進(jìn)入脫硫塔向上(shàng)升起,與向下噴(pēn)淋的脫硫塔以(yǐ)逆流式洗滌,脫硫塔采用噴嘴式(shì)空塔噴淋,將溶劑霧(wù)化無數液滴,讓氣液充分接觸(chù)吸收SO2。氣液相接觸麵積越大,兩相傳質熱反應,效率越高。
脫硫塔內堿液霧化吸收SO2及粉塵,生成Na2SO3,同時消耗了NaOH和Na2SO3。脫硫液排出塔外進入再生池與Ca(OH) 2反應,再生出鈉離(lí)子並補入Na2SO3(或NaOH),經循環脫硫泵打入脫硫循環吸收SO2。
脫硫塔頂部裝有除霧器,經除霧器折流板碰衝作用,煙氣攜帶的煙塵和其他水滴、固體顆粒被除霧器捕獲分(fèn)離。
3、脫硫產物處理
脫硫產物是石膏漿,具體為(wéi)CaSO3、CaSO4還有部分被氧化的Na2SO4及粉塵。由潛水泥漿泵從沉澱池排出處理好,經自然蒸發晾幹。由於石膏漿中(zhōng)含有固體雜(zá)質,影響石膏的質量,所以一般以拋棄(qì)法為高。排出沉澱池(chí)漿液可經水力旋流器,稠厚器增濃提固後,再排至渣(zhā)場處理。
4、關於二次汙染的解決
雙堿法是(shì)以鈉堿吸收(shōu)SO2,其產物可再(zài)生出鈉堿(jiǎn)繼(jì)續使用。有少量的Na2SO4不(bú)能夠再生被帶入石膏漿液中,經(jīng)固液(yè)分離,分離的固體殘渣進行回(huí)收堆放再做他(tā)用。溶液流回(huí)再生池繼續使(shǐ)用,因此不會產生二次汙染。
5、吸收SO2效率及主要影響因素(sù)
PH值:PH值高,SO2吸收速率大,脫硫效率高,同時PH值高,結垢幾(jǐ)率小,避免吸收劑表(biǎo)麵純化。
溫度:溫度低有利於氣液傳質,溶解SO2,但溫度(dù)低影響反應速度,所以脫硫劑的溫度不是一個獨立的不變因素,取決於進氣的煙氣溫度(dù)。
石灰粒度及純度:要求石灰(huī)純度≥95%,粒度控製(zhì)Pc200~300目內。
液漿濃度:控製在10~15%。