發布時間:2023-07-17 11:30:37 人氣:13780
雙堿(jiǎn)法脫硫工藝是先用鈉堿性吸收液(yè)進行煙氣脫硫,然(rán)後再用石灰粉再生脫硫液,由於整個(gè)反應過程(chéng)是液氣(qì)相之間(jiān)進行,避免了係統結垢問(wèn)題,而且(qiě)脫硫速率高、液氣比小、吸收劑(jì)利(lì)用率高、投資費(fèi)用省、運行(háng)成本低,適用於鍋爐煙氣、焦爐氣、鍋爐生產廢(fèi)氣等的脫硫。
一(yī)、工藝(yì)特點(diǎn)
1、以NaOH(Na2CO3)脫(tuō)硫,材料普(pǔ)通,資源豐富,投資成本低;脫硫(liú)液中主要為NaOH(Na2CO3)水溶液,在循環過程中緩解水泵、管道、設備腐蝕、衝刷及堵塞,便於設備運行和維護。
2、鈉基吸收液對SO2反應速度快,故有較小的液氣比,達到較高的脫硫效率,一般≥90%。
3、脫硫劑可被循環使(shǐ)用(yòng),它的再生及脫(tuō)硫沉澱均發生(shēng)於塔體,避免塔內堵塞和磨損,降低了運行成本。
4、以空塔噴淋為脫硫塔結構,運行可靠性高,事故發生率小,塔阻(zǔ)力低,△P≤600Pa。
二、工藝原理
1、工藝(yì)介紹(shào)
雙堿法脫硫係(xì)統采用鈉基脫硫劑進行脫硫,將NaOH(燒堿、火堿)和Ca(OH)2(熟石(shí)灰、消石(shí)灰)攪拌均勻後做成溶液打入脫硫塔,該堿性溶液霧化後與含硫煙氣充分反應,從(cóng)而(ér)脫除煙氣中的(de)SO2。脫硫產物經脫硫劑再(zài)生池被Ca(OH)2還原成(chéng)NaOH,可(kě)再次循環使用。
2、工藝原理
含硫煙氣(qì)經除塵後,由引風機(jī)正壓吹入噴淋脫硫塔內。在噴淋塔(tǎ)內設(shè)置霧化(huà)係統,在(zài)該(gāi)區段空間充滿著由(yóu)霧化器噴出的粒徑為100~300μm的霧化液(yè)滴,煙氣中SO2與吸收堿液再次反(fǎn)應,脫除90%以(yǐ)上的二氧化硫(liú)。
脫硫後的液體落入脫硫塔底部,定時(shí)定期排(pái)入脫硫塔後設置的收集係統,適(shì)當補充一定量的堿液後,經循環(huán)泵再次送入噴霧和配液係統中被再次利用,脫硫劑一直處於循環狀態。
經多次循環後的脫硫漿液排入後處(chù)理係統。由於設計的特殊性,經脫硫後的煙氣通過塔頂除霧器時,將煙氣中的液滴分離出來,達到同時除塵除霧的效果,潔淨煙氣終達標排放。
三、工藝優勢
1、煙(yān)氣係統
煙氣經煙道引風機直接進入脫硫塔,脫硫塔以空塔噴淋結構,設計空速小(4.0m/s),塔壓力降小(xiǎo)(≤600Pa)。脫硫集中除塵、脫(tuō)硫、排煙氣於一體(tǐ),煙氣(qì)升至塔頂進入煙囪排入大氣。當脫硫泵出現(xiàn)故障時,脫硫暫停反應,煙氣可通過(guò)煙囪(cōng)排入大氣。
2、脫硫(liú)塔SO2吸收係統
煙氣進入脫硫塔向上升起,與向(xiàng)下噴淋的脫硫塔以逆流式(shì)洗滌,脫硫塔(tǎ)采用噴嘴式空塔噴淋,將溶劑霧化無數液滴,讓氣液充分接觸吸(xī)收SO2。氣液相接觸麵積越大,兩相傳質熱反應,效率越高。
脫硫塔內堿液霧化吸(xī)收SO2及粉塵,生成Na2SO3,同時消耗了NaOH和Na2SO3。脫硫液排出塔外進入再生池與Ca(OH) 2反應,再生出鈉離子並補入Na2SO3(或NaOH),經循環脫硫泵打入脫硫循環吸收SO2。
脫硫塔頂部裝有除霧器,經除霧器折流板碰衝作用,煙氣攜(xié)帶(dài)的煙塵和其他水滴、固體顆粒被除霧器捕獲分離。
3、脫硫產物處理
脫硫產物是石膏漿,具體為CaSO3、CaSO4還有部分被氧化的Na2SO4及粉塵。由潛水泥漿泵(bèng)從沉澱池排出處理好,經自然蒸發(fā)晾(liàng)幹。由於石膏(gāo)漿中(zhōng)含有固體雜質,影響石膏的(de)質(zhì)量,所以一般以拋棄法為高。排出沉澱池漿液可經水力旋流器,稠厚器增濃提固後,再排(pái)至渣場處理。
4、關於二次汙染的解決
雙堿法是(shì)以鈉堿吸收SO2,其產(chǎn)物可再生出鈉堿繼續使(shǐ)用。有(yǒu)少量的Na2SO4不能夠再生被帶入石膏漿液中,經(jīng)固液(yè)分離,分(fèn)離的固體殘渣進行回(huí)收堆放再做(zuò)他用。溶液流回再生池繼續使用,因此不會產生二次汙染。
5、吸收SO2效率及主要影(yǐng)響因(yīn)素
PH值:PH值高,SO2吸收(shōu)速率大(dà),脫硫效率高,同時(shí)PH值高,結垢幾率小,避免吸收劑表麵純化。
溫度:溫度低有利於氣液傳質,溶解(jiě)SO2,但溫度低影響反應速度,所以脫硫劑的溫度不是一(yī)個(gè)獨立的不變因素,取決於進氣的煙氣溫度。
石灰粒度及純度:要求石灰純度≥95%,粒度控製Pc200~300目內。
液漿濃度:控製在10~15%。