發布時間:2023-07-17 11:30:37 人氣:13780
雙(shuāng)堿法脫硫工藝是先用(yòng)鈉(nà)堿性吸收液進行(háng)煙氣脫硫,然後再用石灰(huī)粉再生脫(tuō)硫(liú)液,由於整個反應過(guò)程(chéng)是液氣相(xiàng)之間進行,避(bì)免了係統結垢問題,而且脫硫速率高、液氣比小、吸收劑利用率高、投資費用省(shěng)、運行成本低,適用於鍋爐煙氣(qì)、焦爐氣、鍋爐生產廢氣等的脫硫。
一、工藝特點
1、以NaOH(Na2CO3)脫硫,材料普通,資源豐富,投資成本(běn)低;脫硫液中主要為NaOH(Na2CO3)水溶液,在循環過程中緩解水泵、管道、設備腐蝕(shí)、衝(chōng)刷及堵塞,便於設備運行和維護。
2、鈉基(jī)吸收液對SO2反應速度快(kuài),故有較小的液氣比,達到較高的脫硫效率,一般≥90%。
3、脫硫劑可被循環使用,它的再生及脫硫沉澱均發生於塔(tǎ)體,避免塔內堵塞和(hé)磨損,降低了運行成本。
4、以空塔噴淋為脫硫塔結構,運行可靠性高,事故發生率小,塔阻力低,△P≤600Pa。
二、工藝原理
1、工藝(yì)介(jiè)紹
雙堿法脫硫係統(tǒng)采用鈉基脫硫劑進行脫硫(liú),將NaOH(燒堿、火堿)和Ca(OH)2(熟石灰、消石灰)攪拌(bàn)均勻後做成(chéng)溶液打入脫(tuō)硫塔,該堿(jiǎn)性溶液霧化後與含硫煙氣充分反應,從而脫除煙氣中的SO2。脫硫產物經脫硫劑再生池被Ca(OH)2還原成(chéng)NaOH,可(kě)再次循環使用。
2、工藝原理
含硫煙氣經除塵後,由引風機正(zhèng)壓吹入噴淋脫硫(liú)塔內。在噴淋塔內設置霧化係統,在(zài)該區(qū)段空間充滿著由霧化器噴出的粒徑為100~300μm的霧化液滴,煙氣中SO2與吸收堿液(yè)再次反(fǎn)應(yīng),脫除90%以上的二氧化硫。
脫硫後的液體落入脫硫塔底部,定時定(dìng)期排入脫硫塔後設(shè)置的收集係(xì)統,適當補充一定量的堿液後,經循環泵再次送入噴霧和配液係統中被(bèi)再次利(lì)用,脫硫劑(jì)一直處於循環狀態。
經多(duō)次循(xún)環後的(de)脫硫漿液(yè)排入(rù)後處(chù)理(lǐ)係統(tǒng)。由於設計的特殊性,經脫(tuō)硫後(hòu)的(de)煙(yān)氣通過塔頂除霧器時(shí),將煙氣中的液滴分離(lí)出來,達到同時除塵除霧的效果,潔淨煙氣終達標排放。
三、工藝優勢
1、煙氣係統
煙氣(qì)經煙道引風機直接進入脫硫塔,脫硫塔以空塔噴淋結構,設計空速小(4.0m/s),塔壓力降小(≤600Pa)。脫硫集中除塵、脫(tuō)硫、排煙氣於一體,煙氣升至塔頂進入煙囪排入(rù)大氣。當脫硫泵出現故障時,脫硫暫停反應,煙氣可通過(guò)煙囪排入大氣。
2、脫硫塔SO2吸收係統
煙氣進入(rù)脫硫塔向上升起,與向下噴淋的脫硫塔以逆流式洗滌,脫(tuō)硫塔采(cǎi)用噴嘴式空(kōng)塔噴淋,將溶劑(jì)霧(wù)化無數液滴,讓氣液(yè)充分接觸吸收SO2。氣(qì)液相接觸麵積(jī)越大,兩相傳質熱反應,效率越(yuè)高。
脫硫塔內(nèi)堿液霧化吸收SO2及粉塵,生成(chéng)Na2SO3,同時消耗了NaOH和Na2SO3。脫(tuō)硫液排出塔外進入再生池與Ca(OH) 2反應,再生出鈉離子並補入Na2SO3(或NaOH),經循環脫硫泵打入脫硫循環吸收SO2。
脫硫塔頂部裝(zhuāng)有除霧器,經除(chú)霧器折流板碰衝作用(yòng),煙氣攜帶的煙塵和其他水滴、固體顆(kē)粒被除霧器捕獲分離。
3、脫硫產物處(chù)理
脫硫產物是石膏漿,具體為CaSO3、CaSO4還有部分被(bèi)氧化的Na2SO4及粉塵。由潛水泥漿泵(bèng)從(cóng)沉澱池排出處理好,經(jīng)自然蒸發晾幹。由(yóu)於石膏漿中含有固體雜質,影響石膏的質量,所以一般以拋棄法為高。排出沉澱池漿液可經水力旋流器,稠厚器增濃提固後(hòu),再排至渣場處理。
4、關於二次汙染的解決(jué)
雙堿(jiǎn)法是以鈉堿吸收SO2,其產物可再生出(chū)鈉堿繼續使用。有少量的Na2SO4不能夠再生被帶入石膏漿液中,經固液分離,分離的固體殘渣進行回收堆放再做他用。溶液流回再生池繼續使用,因此不會產生二次汙(wū)染。
5、吸收SO2效率及主要影響因素
PH值:PH值高,SO2吸收速(sù)率大,脫硫效率高,同時PH值高,結垢幾率小,避免吸收劑表麵純化。
溫度:溫度低有利於氣液傳質,溶(róng)解SO2,但溫度低影響反應速度,所(suǒ)以脫硫劑的溫度不是(shì)一個獨立的不變因素,取決於進(jìn)氣的煙氣溫(wēn)度(dù)。
石灰粒度(dù)及純(chún)度:要求石灰純度≥95%,粒度控製Pc200~300目內。
液漿濃度:控製在10~15%。